第4章 大首长要见你（2/2）

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“你年纪大，你先吧！”王院士呵呵道。

孙院士不爽了，“你年纪小，你先说。”

“那好，我不客气了！”王院士笑眯眯的将复印件递了过去。

孙院士翻看着复印件，一开始还非常不屑一顾。

1nmx射线光刻机光源技术？

开什么玩笑！

x射线虽然波长比EUV极紫外线更短，精度更高。

但不稳定性和不连续性却是个天大的麻烦。

有攻克这个难题的功夫，本国早就把光刻机的技术精度推到10nm了。

“拓子晶体激发的量子限域高次谐波x射线扑光子晶体激发的量子限域高次谐波x射线光源，基于量子点超晶格与自聚焦等离子体通道的1nm波段相干光源！

“采用飞秒激光（脉宽5fs，峰值功率10pw）轰击氖\/氪混合气体靶，诱导多体量子隧穿效应，产生高亮度宽谱x射线（0.5-2nm）。

“通过自旋轨道耦合调制，使等离子体形成周期性涡旋结构，提升高次谐波转化效率至~5x10??（传统hhG的50倍.......”

看着看着，孙院士脸上的不屑瞬间凝固，只感觉头皮发麻，手上拿着的咖啡杯顿时落在地上，摔碎。

卧槽！

这是哪个妖孽设计的光源系统？

太精妙了！

有些地方简直让他茅塞顿开，灵感迸发，差点就要当场来个‘龙场悟道’。

不过，自己的那些灵感与人家这份技术上的思路，还是差太远了。

看完后，孙院士有些意犹未尽，

“按照上面的流程和方案，完全可行，足以解决x射线光源的不稳定性和不持续性的毛病。”

“理论上，x射线的分辨率小于等于0.1nm，套刻精度小于等于0.3nm。工业级芯片量产精度至少0.4nm！”

“哪怕我国的物镜工艺再差劲，计算上光精度损耗，工业级芯片的精度可以实现1nm！完全不需要什么高精尖光学透镜。

“甚至还能反过来倒逼光学透镜产业，让蔡司、尼康统统滚出光刻市场！”

“老王，这是美国哪位天才设计的光源系统？到光学元件表面镀制单层二硫化钼\/石墨烯异质结，利用热电子超扩散效应后，怎么没有下文了？”

在孙院士眼里，只有美国的天才才能设计出如此巧妙且牛逼的光源系统。

至于国内的天才，他倒不是崇洋媚外，而是真不行。

这和科研环境有非常大的关系。

王院士摇了摇头：

“国内一个医学院士写的东西，正主还在查。但应该不是美国人。”

“医生？”孙院士感觉自己的脑子仿佛被锤子给砸了一下，脑瓜子嗡嗡嗡的。

什么时候医生都能跑过来研究光刻机，而且还比他们这些专业人士还猛？

这特么是哪位弃医从芯的天降猛人？要不要这么猛啊，上来就搞1nm光刻机光源。各咱们留个活路吧！

瑟瑟发抖。

孙院士开始瑟瑟发抖了。

如果他知道陆凡有一整套1nm光刻机的技术，恐怕会更震惊。

“这下见识到人外有人，天外有天了吧？”王院士深有同感的拍了拍老孙的肩膀，问道：

“技术怎么样？能不能应用？”

应用，也就是直接从理论论证，转入工业量产。

一般而言，这个过程往往需要数年时间。

王院士主理论，孙院士主应用。

陆凡的1nm光刻机光源技术，王院士觉得理论上没问题，所以才会来询问孙院士。

孙院士摇了摇头：

“不是能不能应用。

“而是，你看到的就是正宗工业应用量产技术流程，能直接用于工业生产的指导！”

“随便一家美国企业，只要按照上面的步骤，就能造出x射线光源。”

“这种技术价值无可估量！”

“我们可能捡到宝了！”

“对了，你怎么没把那位大佬请过来？”

王院士大吃一惊，忍不住爆了一句粗口：“卧槽！”

“不好！”

孙院士眉头一皱。

王院士一言不发，拉着他就往实验室外走。

一边走，一边嘀咕道：

“事情大条了，这位用的企业邮箱发送，真是心大！”

“你我两人必须立刻进京，面见大首长！”

“让国安那边抓点紧，尽快找到那位发邮件的大佬。如果让老美发现，后果不堪设想！”

孙院士脸色也变了。

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京城时间：12:12分！

这本是历史上一个平平无奇的日子，距离本年国庆结束也不过十天时间。

然而，在这个普通的日子里。

两位国内最权威的半导体领域的院士双双进京。

恢弘的会客厅内，灯火通明，没人知道这里谈论了什么内容。

只知道，大首长们往日愁眉不展的脸上终于阴霾散去。

只知道，全国各大半导体龙头、手机龙头、新能源，以及部分设计雷达、指挥系统芯片的军工企业都接到了一份参加级别很高的政策会议邀请。

此外。

还有一件事！

那就是大首长们要见一见，这位能力挽本国芯片半导体狂澜于倒悬的“医生高人”！